Нейтронное трансмутационное легирование полупроводников Вып.11

Характеристики
Автор Миз Дж., Стоун Б., Хайнс Д. и др.
Издательство Мир
Переплет ОБЛ
Формат 60x84/16
Вес, гр 266
Год 1982
Стр. 264
ID 40УР
Книга содержит ряд докладов, прочитанных специалистами США и других стран на Второй международной конференции по НТЛ полупроводников и посвященных новой перспективной технологии введения легирующих примесей в полупроводники --- трансмутационному легированию при облучении в реакторе. Рассмотрены физические основы трансмутационного легирования (ТЛ), вопросы радиационной безопасности, техника облучения, образование дефектов и их отжиг, электрофизические и структурные свойства трансму-тационно-легированного кремния и улучшение характеристик приборов.Предназначена для специалистов в области радиационной физики твердого тела, полупроводниковой технологии, реакторной физики и техники.